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电子半导体行业

行业简介
电子、半导体行业中产品清洗或者加工基本上都要用到10 MΩ*cm以上的高纯水或者超纯水。
超纯水是既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm,或接近18.2MΩ*cm极限值(25℃)。
超纯水,是一般工艺很难达到的程度,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.2MΩ*cm(25℃)。
详见电子级水GB 11446.1-2013
 
 工艺流程
●预处理系统→反渗透系统→纯水箱→纯水泵→精制混床→精密过滤器→用水对象 【电阻率≥10MΩ•CM】  针对小规格用水单位
●原水→砂滤器→炭滤器→软水器(加药阻垢装置)→保安过滤器→一级反渗透系统→PH调节装置→中间水箱→二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→精制混床→精密过滤器→用水对象【电阻率≥10MΩ•CM 】
●预处理系统→双级反渗透系统→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→用水对象【≥15 MΩ•CM】
●预处理系统→双级反渗透系统→RO纯水箱→RO纯水泵→EDI装置→EDI纯水箱→EDI纯水泵→UV杀菌器→抛光混床→微孔过滤器→用水对象【≥18 MΩ•CM】
应用范围》
●单/多晶硅、半导体晶片切割制造
●半导体芯片、半导体封装
●引线柜架、集成电路、 液晶显示器
●导电玻璃、电池(蓄电池)、显像管、线路板
●光通信、电脑元件、电容器
●洁净产品及各种元器件等生产工艺用水
 
 

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